第623章 掩模对准曝光设备（1 / 2）

“我们公司之前提出的事情？”

听到这位白大褂教授的话，楚扬不由微微一愣，一时没有明白对方所说的是指什么事情。

一旁的迈克尔则是眼中一亮，

“老师，您说的难道是掩模对准曝光设备？”

掩模对准曝光设备？

听到这个有些古怪的名称，楚扬先是一愣，然后突然间想到了什么，心中直接猛地一跳，不可置信地看向这位禁欲系美女教授，

“奥得蒙教授，您说的难道……难道是光刻机？？”

他隐约记得，光刻机的正规学名好像就是“掩模对准曝光设备”！

因为所谓“光刻”，便是在硅片的基底表面覆盖一层具有高度光敏感性的光刻胶，再用特定光线透过包含目标图案信息的掩模板照射在基底表面，被光线照射到的光刻胶则会发生反应，形成掩膜板上设定好的精密线路，如同刻录效果。

所以这种根据掩模板，使用特殊光线对硅片进行曝光“刻录”的设备，便叫做“掩模对准曝光设备”，俗称光刻机！

在楚扬不可置信的目光之中，白大褂女教授微微点头，

“嗯，两台光刻机主体设备前两天已经组装完成，其他配套组件也已经在测试……”

“如果不出什么意外的话，明天上午这两套设备便可以完成测试组装，然后正常投入使用。”

看着这位禁欲系女教授如此轻描淡写的平淡表情，就仿佛在说着一件十分微不足道的事情一样，楚扬无比艰难地咽了口唾沫。

这可是光刻机啊，最近十几年甚至几十年掣肘整个华夏半导体发展的关键！

这才短短几个月的时间，对方就如此轻松地搞出来了？

这怎么可能？？

即便对方是之前全球最顶级的光学研发团队之一，楚扬也很难相信这件事情！

“奥……奥得蒙教授，您刚刚所说的这两套光刻机设备，不知道能够达到的生产制程标准是？”

在他看来，如果真的能够在这么短的时间内完成，那估计是早就被市场淘汰的技术设备了。

可是这位禁欲系美女教授的回答却让他再次呆立当场！

“28n以上都没有问题。”

“这……”

听到对方口中的淡淡声音，楚扬的喉咙动了动，呼吸都变得有些急促起来。

虽然知道这件事情几乎不可能，但直觉又告诉他，这个禁欲系女教授说的应该是真的。

看到楚扬的神色，迈克尔微笑着解释道：

“楚总可能有所不知，对于老师的团队来说，组装一套使用老旧技术的光刻系统设备并算不了什么……”

“老旧技术？？”

楚扬一脸愕然。

迈克尔点了点头，

“没错，DUV（深紫外光线）光刻技术对于老师的团队来说，确实已经算是过时的技术了……”

白大褂女教授也是淡淡道：

“迈克尔说的没错，可能想要再进一步突破很难，但如果只是如今已经推向市场的28n光刻机设备，其中并没有什么技术难度，更何况是在拥有如此完善实验室的基础上。”

“楚总可能并不知道，目前爱斯麦尔那边应该已经能够生产出14纳米技术的光刻机设备了，只是根据他们的市场计划，这种先进技术的产品需要等到几年后再推向市场而已……”

“只是DUV深紫外光技术最多仅能达到20纳米左右的精度，想要突破到20纳米以内，目前只有采用EUV极紫外光线技术，而这项技术我们团队暂时还没有突破……”