第120章 51区的脑补闭环了（1w）（7 / 14）

，希望能够卖到自由阵营，赚美元回来。

    一般的方法肯定卖不过去，但在燕京负责对外贸易同志的想办法下，他们找到了一条路，走芬兰做转口贸易。

    关于如何走芬兰过一遍先按下不表，接着回到51区。

    对王守觉和王守武两兄弟来说，目标是制造一块包含多个晶体管、电阻和电容的单片集成电路。

    其中包括了硅材料提纯、平面工艺、光刻、刻蚀和互连等技术。

    而且此时的华国缺乏精密半导体制造设备，光刻机和晶圆切割机都很缺乏。

    最开始大家只能使用锯子手工切割硅片，并通过人工抛光达到所需平整度。

    光刻工艺需要高精度掩模和曝光系统更是只能依靠自制设备。

    “守觉，这块硅片的表面粗糙，刻蚀不均匀。我们的光刻设备精度不够。”

    “是的，我们只能靠手工调整掩模和曝光时间。必须再试几次。”

    大家都深知设备限制，不得不自力更生。

    最开始团队只能自制光刻掩模，通过反复试验优化曝光和显影工艺。

    设计最简单的光学系统，利用现有显微镜改装，勉强实现微米级图案化。

    这样搞，无论是良率还是稳定性都特别差。

    好在东德的合作很快到来，就像一阵春风，东德在光学仪器上，帮助他们快速解决了原本无法解决的关卡。

    一个接一个的克服，能做到微米级的步进式光刻机打造出来后，芯片印刷上的难题都迎刃而解。

    按照原历史，华国本来也在1965年，由华国科学院微电子研究所和申海光学仪器厂一起合作，研发出了华国第一台65型接触式光刻机。

    《1956-1967年科学技术发展远景规划纲要》里关于半导体技术制定的计划，几乎都实现了。

    只是现在，因为有了更具体的目标。

    65式这种只是基于研发的机器是肯定无法满足。

    华国和东德合作，造出来要更符合实际生产需要，已经和原本1985年才搞出来的分步光刻机相差不大了。

    剩下的就是高纯度的硅，国内硅片常含杂质。

    进口高纯硅受限。

    从区域精炼工艺到炉子改造，再到温度精准监控。

    这些都无法依赖东德，只能靠自己。